億力鑫系統科技股份有限公司（ELS System Technology Co., Ltd.）
順應台灣光電半導體產業高階設備本土化的潮流，2005 年 4 月由經營黃光(微影)製程設備與材料 15 年的代理商鑫拓實業股份有限公司投資，引進日本技術並結合本土機構設計、PC、PLC、影像處理、電控、藥液管路…等等各方菁英，專精於國內不敢也不能製造的前段全自動黃光(微影)製程量產設備。
披荊斬棘，公司已進入第19年，ELS戮力順應製程設備必須完全對應【製程的不可逆特性】，已由初期的【堪用】進展到現階段的【適用】與【好用】，當然除了ELS努力外，最重要成就ELS的是【客戶】，是客戶協助ELS面對【製程的不可逆特性】不斷給予方向引導與技術協助，讓ELS 150 位各有專長的同仁能依照客戶需求，團隊合作成功開發出全自動黃光(微影)、濕製程量產設備。
順應台灣光電半導體產業高階設備本土化的潮流，2005 年 4 月由經營黃光(微影)製程設備與材料 15 年的代理商鑫拓實業股份有限公司投資，引進日本技術並結合本土機構設計、PC、PLC、影像處理、電控、藥液管路…等等各方菁英，專精於國內不敢也不能製造的前段全自動黃光(微影)製程量產設備。披荊斬棘，公司已進入第19年，ELS戮力順應製程設備必須完全對應【製程的不可逆特性】，已由初期的【堪用】進展到現階段的【適用】與【好用】，當然除了ELS努力外，最重要成就ELS的是【客戶】，是客戶協助ELS面對【製程的不可逆特性】不斷給予方向引導與技術協助，讓ELS 150 位各有專長的同仁能依照客戶需求，團隊合作成功開發出全自動黃光(微影)、濕製程量產設備。
ELS成立初始即定位成為整體解決方案的供應商 ( Total Solution Provider )，當然也築夢踏實以黃光(微影)製程與濕製程的以Single type & Spin為核心技術成功開發【 光阻塗佈設備 】→【 曝光設備 】→【 光罩清洗設備 】→【 光罩AOI自動光學缺陷檢查設備 】→【 顯影設備 】→【 蝕刻設備 】→【 金屬/光阻剝離設備 】。除了在6吋以下的III V通訊產業(第三代半導體)、LED、分離器件與其他被動元件產業達到高市占率，2012年開始ELS陸續完成12吋晶圓清洗→塗佈→曝光→顯影→蝕刻→光阻去除設備開發，進一步成功跨入12吋晶圓先進封裝產業設備供應鏈，落實ELS成為2吋~12吋晶圓的黃光(微影)與濕製程的Total Solution Provider 的定位，並完成公司既定目標：
一直以來，ELS善用整合力並透過【持續精進的專案管理工作流程】與【KM知識管理IT系統】致力於將設備標準化與模組化，除了達成設備信賴度與可靠度外，更重要的是我們回饋客戶引領ELS成為黃光(微影)製程設備本土化第一名，協助客戶以Cost Down 設備製造費用&低維護成本，進而將標準化深化入客製設備，讓ELS有機會與客戶一起競逐半導體產業大舞台，達到客戶與ELS雙贏之結果，讓ELS成為客戶的長久合作夥伴。
